Kiinan puolijohdevarastot nousivat jyrkästi, kun hallitus on hyväksynyt kotimaisen siruteknologian

Kiinan puolijohdeosakkeet nousivat keskiviikkona jyrkästi sijoittajien innostuksen vetämänä uuden hallituksen julkaiseman oppaan jälkeen, joka korostaa merkittävää edistystä Kiinan kotimaisten sirujen valmistuskapasiteetissa.

Kiinan teollisuus- ja tietotekniikkaministeriön (MIIT) opas on ruokkinut optimismia maan kyvystä tehostaa puolijohdesektoriaan ja vähentää riippuvuutta ulkomaisesta teknologiasta.

Syytä johtavat Shanghai Zhangjiang Hi-Tech Park Development ja Shanghai Highly Group saavuttivat molemmat suurimman sallitun 10 prosentin lisäyksen, kun taas laajemmasta kauppavalikoimasta hyötynyt Sanhe Tongfei Refrigeration nousi 20 prosenttia.

Ralli seuraa MIIT:n rohkaisua käyttää keskeisiä kotimaisia puolijohdelaitteita, keskittyen erityisesti kahden kotimaisen litografiakoneen käyttöönottoon.

MIIT-oppaan julkaisu on tuonut uuden optimismin aallon Kiinan puolijohdealalle.

Oppaan hyväksyminen kahdelle kotimaiselle litografiakoneelle – toisen, jonka resoluutio on 65 nanometriä – on tulkittu merkittäväksi askeleeksi kohti Kiinan riippuvuuden vähentämistä kansainvälisestä sirunvalmistusteknologiasta.

Shenyang Blue Silver Industry Automation Equipment nousi 10,7 % markkinoiden sulkeutuessa, mikä kuvastaa sijoittajien luottamusta hallituksen sitoutumiseen kotimaisen teknologian kehittämiseen jatkuvista kansainvälisistä vientirajoituksista huolimatta.

Kotimainen siruteknologia edistyy

MIIT:n kotimaisten litografiakoneiden edistäminen on merkittävä virstanpylväs Kiinan siruteollisuudelle.

Vaikka 65 nanometrin kone on edelleen jäljessä kansainvälisistä kilpailijoista, kuten hollantilainen ASML, joka tuottaa siruja, joiden resoluutio on jopa 8 nanometriä, hallituksen tuki kotimaiselle teknologialle on tärkeä kehityssuunta Kiinan puolijohdetavoitteissa.

Tämä muutos korostaa Kiinan kasvavaa keskittymistä omavaraisuuteen sirunvalmistuksessa.

Kiinan puolijohdeteollisuus on kohdannut merkittäviä haasteita Yhdysvaltojen vientirajoitusten vuoksi, jotka ovat estäneet edistyneen ulkomaisen teknologian saatavuutta.

Nämä rajoitukset, joiden tarkoituksena on rajoittaa Kiinan teknologista kehitystä, ovat estäneet maailmanlaajuisten johtajien, kuten ASML:n, pääsyn kriittisiin laitteisiin.

Vastauksena kiinalaiset yritykset, mukaan lukien Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), ovat tehostaneet ponnistelujaan kotimaisten litografiakoneiden kehittämiseksi.

MIIT-oppaan suositus osoittaa näiden ponnistelujen kasvavaa vauhtia, mikä lisää sijoittajien optimismia Kiinan mahdollisuuksista saavuttaa omavaraisuus siruteknologiassa.

Kiinan 65 nanometrin litografiakone

MIIT-oppaassa esitelty litografiakone, jonka resoluutio on 65 nanometriä, edustaa merkittävää edistystä Kiinan puolijohdeteollisuudelle.

Tämä tekniikka jää kuitenkin edelleen alle ASML:n tuottamien huippuluokan koneiden, joiden resoluutio on enintään 8 nanometriä.

Alan asiantuntijat, mukaan lukien RHCC:n toimitusjohtaja Leslie Wu, tunnustavat Kiinan kohtaamat haasteet umpeen umpeen puolijohdealan globaaleihin johtajiin.

Siitä huolimatta hallituksen tuki kotimaisille laitteille nähdään myönteisenä askeleena kohti maan siruvalmistusvalmiuksien parantamista.

MIIT:n ohjaus on herättänyt innostusta koko Kiinan puolijohdesektorilla, erityisesti edistyneitä litografiakoneita kehittävien yritysten keskuudessa.

Shanghai Micro Electronics Equipmentin (SMEE) kaltaiset yritykset ovat eturintamassa pyrkiessään vähentämään riippuvuutta ulkomaisesta teknologiasta.

Vaikka haasteita on edelleen, osakekurssien viimeaikainen nousu heijastaa kasvavaa luottamusta Kiinan siruteollisuuden mahdollisuuksiin parantaa kilpailukykyä maailmanlaajuisesti.

Kun maa jatkaa investointeja kotimaiseen teknologiaan, puolijohdesektorilla on kasvua ja innovaatiota.