Nieuwe chipmachines in China: kunnen ze concurreren met westerse technologie?

China heeft onlangs de ontwikkeling aangekondigd van twee nieuwe lithografiemachines. Daarmee wil het land minder afhankelijk worden van de VS op het gebied van halfgeleiderproductie.

Deze stap is onderdeel van de bredere inspanningen van China om de door de VS opgelegde beperkingen te omzeilen die de toegang van China tot geavanceerde chiptechnologie belemmerden.

Hoewel de nieuwe machines een teken van vooruitgang zijn, blijft het de vraag of ze echt kunnen concurreren met de geavanceerde apparatuur van bedrijven in het Westen, zoals ASML Holdings.

Wat is de betekenis van deze machines?

Lithografiemachines zijn van cruciaal belang voor de productie van chips, omdat ze licht gebruiken om complexe circuits op siliciumwafers te etsen.

Hoe meer circuits op één wafer worden geprint, hoe krachtiger en efficiënter de chips worden.

De nieuwe lithografiemachines van China, die werken op golflengten van 193 nm en 248 nm, vertegenwoordigen een belangrijke technologische prestatie voor het land.

Hun mogelijkheden schieten echter tekort vergeleken met de geavanceerde apparatuur die door toonaangevende halfgeleiderfabrikanten wereldwijd wordt gebruikt.

Hoe goed zijn de lithografiemachines in China?

Hoewel de ontwikkeling van deze lithografiemachines door China een prijzenswaardige stap is, blijft deze achter bij de mogelijkheden van geavanceerde systemen zoals die van het Nederlandse bedrijf ASML.

De Deep Ultraviolet (DUV) lithografiemachines van ASML werken op een golflengte van 38 nm, veel geavanceerder dan de 193 nm-machine uit China.

Bovendien hebben de Amerikaanse sancties het voor China lastig gemaakt om toegang te krijgen tot de nieuwste DUV-technologie, waardoor de kloof tussen de Chinese en Westerse productiecapaciteiten voor halfgeleiders verder is toegenomen.

De VS lobbyt actief bij internationale fabrikanten van halfgeleiderapparatuur om de toegang van China tot cruciale technologie te beperken.

Dit houdt onder meer in dat de Nederlandse overheid beperkingen moet opleggen aan de verkoop van ASML aan China. Er zouden zelfs speciale licenties nodig zijn voor upgrades van machines die al aan het land zijn geleverd.

Hierdoor zullen de nieuwe lithografiemachines in China mogelijk niet de transformatieve impact hebben die de Chinese overheid hoopt.

Is China al te laat?

Terwijl China streeft naar een inhaalslag op het gebied van DUV-technologie, heeft de wereldwijde halfgeleiderindustrie haar focus al verlegd naar Extreme Ultraviolet (EUV)-lithografie.

EUV-machines werken op een golflengte van slechts 13,5 nm, waardoor fabrikanten chips dichter op elkaar kunnen stapelen, de efficiëntie kunnen verbeteren en de kosten kunnen verlagen.

De EUV-technologie van ASML is de standaard geworden voor de productie van geavanceerde chips en zal naar verwachting dit jaar goed zijn voor meer dan een derde van de omzet van het bedrijf.

Helaas voor China is het land grotendeels uitgesloten van deze technologische sprong vanwege de exportcontroles die de VS uitvoert.

De kloof tussen de Chinese 193nm-lithografiemachines en de westerse 13,5nm EUV-machines vormt een aanzienlijke technologische kloof die voor China moeilijk te overbruggen is.

Ondanks de ontwikkeling van nieuwe lithografiemachines, kampt China met aanzienlijke obstakels in de concurrentiestrijd met de geavanceerde chiptechnologie uit het Westen.

De Amerikaanse sancties, gecombineerd met de snelle ontwikkeling van productiemethoden voor halfgeleiders, suggereren dat China moeite zal hebben om wereldleiders als ASML bij te benen.

Hoewel deze nieuwe machines China's afhankelijkheid van westerse technologie op korte termijn kunnen verminderen, zal het land op lange termijn grote stappen moeten zetten op het gebied van innovatie en strategie om de kloof te dichten.