ASML:n osake romahti, kun Kiina alkaa valmistaa kotimaisia DUV-piirikoneita

Hollantilaisen puolijohdelaitteita valmistavan jättiläisen ASML:n osakkeet laskivat jyrkästi maanantaina sen jälkeen, kun raportin mukaan Kiina on alkanut valmistaa kotimaisesti kehitettyjä immersion-tyypin syvän ultraviolettivalon (DUV) litografialaitteita, mikä voi vähentää maan riippuvuutta länsimaisista piirivalmistuksen laitteista vientirajoitusten kiristyessä.

The Informationin mukaan, valtion tukemat koneet odotetaan toimitettavan myöhemmin tänä vuonna johtaville kiinalaisille puolijohdevalmistajille, mukaan lukien Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor ja ChangXin Memory Technologies.

Raportti, joka siteerasi asiaan perehtyneitä henkilöitä, kertoi tuotannon jo alkaneen, vaikka valmistajan henkilöllisyyttä ei paljastettu projektin herkkyyden vuoksi.

Kehitys järisytti sijoittajia koko puolijohdelaitteiden alalla.

ASML:n osakkeet laskivat yli 8 %, kun taas yhdysvaltalaiset piirilaitevalmistajat Applied Materials, Lam Research ja KLA Corp joutuivat myös paineen alle, laskien noin 5 %, lähes 7 % ja 4 %.

Kiina tähtää puolijohdeteollisuuden kriittiseen pullonkaulaan

Litografialaitteita pidetään yleisesti teknisesti haastavimpina laitteina puolijohdevalmistuksessa, sillä ne painavat monimutkaisia piirikuviota piikiekkoihin.

ASML hallitsee edistyneiden litografiajärjestelmien maailmanmarkkinoita ja on edelleen ainoa EUV-litografiakoneiden toimittaja, joita käytetään edistyneimpien sirujen valmistukseen.

Sen jälkeen, kun Yhdysvaltojen ja Alankomaiden vientivalvonta esti ASML:ää myymästä EUV-järjestelmiä Kiinaan, kiinalaiset siruvalmistajat turvautuivat yhä enemmän yhtiön vanhempiin immersion DUV -koneisiin.

Nuo myynnit muodostuivat yhdeksi ASML:n tärkeimmistä Kiinasta tulevista tulonlähteistä, kun paikalliset valmistajat hamstraavat laitteita etukäteen odotettujen lisävientirajoitusten varalta.

Jos kiinalaiset yritykset nyt pystyvät hankkimaan vastaavia DUV-työkaluja kotimaasta, sijoittajat pelkäävät, että ASML:n jäljellä olevat liiketoimintamahdollisuudet Kiinassa voivat kutistua ajan myötä.

Kerrannaisvaikutukset leviävät laitevalmistajiin

Myyntiaalto levisi ASML:ää laajemmalle, koska sijoittajat tulkitsivat raportoidun läpimurron laajempana uhkana maailmanlaajuiselle puolijohdelaiteteollisuudelle.

Vaikka ASML toimittaa litografialaitteita, yritykset kuten Applied Materials, Lam Research ja KLA valmistavat työkaluja puolijohdevalmistuksen muihin kriittisiin vaiheisiin, kuten materiaalikerrostukseen, piikiekkojen etsaamiseen ja vikojen tarkastukseen.

Markkinatoimijat pelkäävät, että jos Kiina onnistuu kehittämään kilpailukykyisiä litografiajärjestelmiä, se voisi lopulta paikallistaa huomattavasti suuremman osan puolijohdetuotannon toimitusketjustaan.

Se puolestaan pienentäisi länsimaisten laitevalmistajien Kiinaan kohdistuvaa pitkän aikavälin kohdemarkkinaa.

Tuotanto pysyy toistaiseksi rajallisena

Raportin mukaan läpimurrosta huolimatta Kiinan kotimaiset DUV-järjestelmät jäävät edelleen ASML:n koneiden jälkeen suorituskyvyssä ja luotettavuudessa.

Teknologia vaatii vielä lisätestausta ennen laajamittaista kaupallista käyttöönottoa, mikä antaa ASML:lle teknologista etua lyhyellä aikavälillä.

Tuotannon odotetaan pysyvän aluksi vaatimattomana; noin viisi immersion DUV -konetta on määrä toimittaa tänä vuonna ja noin 20 konetta on suunniteltu toimitettavaksi vuoden 2027 aikana.

Immersion DUV -teknologia edustaa tällä hetkellä edistyneintä litografialaitteistoa, joka on kiinalaisten siruvalmistajien saatavilla EUV-järjestelmien käyttörajoitusten jälkeen.

Kiina kehittää myös kotimaista EUV-litografiakonetta, vaikka tämä hanke raporttien mukaan on toistaiseksi prototyyppivaiheessa.

Ajankohta osuu yhteen Yhdysvaltojen tiukentuvien rajoitusten kanssa

Raportoitu tuotannollinen läpimurto tapahtuu samalla, kun Washington harkitsee lisärajoituksia puolijohdelaitteiden vientiin ja huoltotoimiin, jotka koskevat Kiinaa.

Yhdysvaltain kongressi vie eteenpäin MATCH Actia, molemminpuolueista lainsäädäntöä, jonka tarkoituksena on entisestään rajoittaa Kiinan kykyä ostaa tai ylläpitää kehittyneitä DUV-litografialaitteita ulkomaisilta toimittajilta.

Jos Kiina onnistuu tuottamaan käyttökelpoisia kotimaisia vaihtoehtoja, mainittujen rajoitusten tehokkuus saattaa heikentyä ajan myötä.

Pekingille kotimaisten litografialaitteiden kehittäminen on noussut strategiseksi prioriteetiksi, kun geopoliittiset jännitteet jatkavat maailmanlaajuisten puolijohdetoimitusketjujen muokkaamista.

Vaikka tuorein raportti ei viittaa siihen, että Kiina olisi vielä saavuttanut ASML:n teknologista tasoa, se osoittaa, että maan pitkäaikaiset pyrkimykset vähentää riippuvuutta ulkomaisista puolijohdelaitteista alkavat tuottaa konkreettisia tuloksia.

Sijoittajille maanantain markkinareaktio heijasti huolia siitä, että jopa rajallinen kotimainen tuotanto saattaisi lopulta muuttaa kilpailutilannetta yhdellä puolijohdeteollisuuden strategisesti tärkeimmistä laitesegmentistä.