Saham ASML merosot selepas China mula hasilkan mesin DUV cip buatan sendiri

Saham gergasi peralatan semikonduktor Belanda ASML jatuh mendadak pada Isnin selepas satu laporan menyatakan China telah mula menghasilkan mesin litografi immersion ultraviolet dalam (DUV) yang dibangunkan secara domestik, satu pencapaian yang boleh mengurangkan kebergantungan negara itu kepada peralatan pembuat cip Barat ketika sekatan eksport semakin ketat.

Menurut The Information, mesin yang disokong kerajaan itu dijangka dihantar lewat tahun ini kepada pengeluar semikonduktor terkemuka China, termasuk Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor dan ChangXin Memory Technologies.

Laporan itu, memetik individu yang biasa dengan perkara tersebut, menyatakan pengeluaran telah bermula, walaupun identiti pengilang tidak didedahkan kerana sensitiviti projek itu.

Pembangunan itu menggugat pelabur dalam industri peralatan semikonduktor.

Saham ASML merosot lebih 8%, manakala pembuat peralatan cip berpangkalan di AS seperti Applied Materials, Lam Research dan KLA Corp turut tertekan, turun hampir 5%, hampir 7% dan 4%, masing-masing.

China sasar kesesakan kritikal rantaian semikonduktor

Mesin litografi dianggap secara meluas sebagai peralatan paling mencabar dari segi teknologi yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor kerana ia mencetak corak litar yang rumit ke atas wafer silikon.

ASML menguasai pasaran global bagi sistem litografi maju dan kekal sebagai satu-satunya pembekal mesin litografi extreme ultraviolet (EUV) di dunia yang digunakan untuk menghasilkan cip paling canggih.

Selepas kawalan eksport AS dan Belanda menghalang ASML daripada menjual sistem EUV kepada China, pengeluar cip China semakin bergantung pada mesin immersion DUV versi lama syarikat itu.

Jualan tersebut menjadi salah satu sumber hasil paling penting ASML dari China apabila pengeluar tempatan menimbun peralatan menjelang sekatan eksport selanjutnya.

Sekiranya syarikat China kini mampu mendapatkan alat DUV yang setanding secara domestik, pelabur bimbang peluang perniagaan ASML yang masih ada di China mungkin mengecil secara beransur-ansur.

Kesan berganda merebak di kalangan pembuat peralatan

Jualan besar itu meluas melebihi ASML kerana pelabur mentafsir kejayaan yang dilaporkan sebagai ancaman lebih luas terhadap industri peralatan semikonduktor global.

Walaupun ASML membekalkan peralatan litografi, syarikat seperti Applied Materials, Lam Research dan KLA menghasilkan alat yang digunakan dalam peringkat penting lain pembuatan semikonduktor, termasuk pembendapan bahan, etsa wafer dan pemeriksaan kecacatan.

Peserta pasaran bimbang jika China berjaya membangunkan sistem litografi yang kompetitif, ia akhirnya boleh melokalkan jauh lebih banyak rantaian bekalan pembuatan semikonduktornya.

Perkara itu pula akan mengurangkan pasaran boleh dicapai jangka panjang bagi pembekal peralatan Barat di China.

Pengeluaran kekal terhad buat masa ini

Walaupun terdapat kejayaan itu, laporan mencadangkan sistem DUV domestik China masih ketinggalan berbanding mesin ASML dari segi prestasi dan kebolehpercayaan.

Teknologi itu memerlukan ujian lanjut sebelum disebarkan secara komersial berskala besar, membolehkan ASML mengekalkan kelebihan teknologi dalam jangka pendek.

Pengeluaran dijangka kekal sederhana pada awalnya, dengan kira-kira lima mesin immersion DUV dijadualkan dihantar tahun ini dan kira-kira 20 mesin dirancang pada 2027.

Teknologi immersion DUV kini mewakili peralatan litografi paling maju yang boleh diakses oleh pengeluar cip China selepas sekatan terhadap akses kepada sistem EUV.

China juga sedang membangunkan mesin litografi EUV yang dihasilkan secara domestik, walaupun usaha itu dilaporkan masih pada peringkat prototaip.

Masa sejajar dengan sekatan AS yang lebih ketat

Kejayaan pengeluaran yang dilaporkan itu berlaku ketika Washington mempertimbangkan sekatan tambahan terhadap eksport peralatan semikonduktor dan aktiviti penyelenggaraan yang melibatkan China.

Kongres Amerika Syarikat sedang memperjuangkan MATCH Act, rang undang-undang bipartisan yang direka untuk lebih mengehadkan keupayaan China membeli atau menyelenggara peralatan litografi DUV maju daripada pembekal asing.

Sekiranya China berjaya menghasilkan alternatif domestik yang boleh digunakan, keberkesanan sekatan yang dicadangkan itu mungkin berkurangan dari masa ke masa.

Bagi Beijing, membangunkan peralatan litografi buatan sendiri telah menjadi keutamaan strategik kerana ketegangan geopolitis terus membentuk semula rantaian bekalan semikonduktor global.

Walaupun laporan terkini tidak menunjukkan China telah menandingi kemampuan teknologi ASML, ia menunjukkan usaha jangka panjang negara itu untuk mengurangkan pergantungan pada peralatan semikonduktor asing mula menunjukkan hasil yang ketara.

Bagi para pelabur, reaksi pasaran pada hari Isnin mencerminkan kebimbangan bahawa walaupun pengeluaran domestik yang terhad akhirnya boleh mengubah landskap persaingan dalam salah satu segmen peralatan yang paling penting secara strategik dalam industri semikonduktor.