Ações da ASML caem após relatos de produção doméstica chinesa de máquinas DUV

As ações do gigante holandês de equipamentos para semicondutores ASML caíram acentuadamente na segunda-feira após um relatório dizer que a China começou a fabricar máquinas de litografia DUV de imersão (ultravioleta profundo), um marco que poderia reduzir a dependência do país de equipamentos ocidentais para fabricação de chips à medida que as restrições de exportação se intensificam.

De acordo com The Information, as máquinas com apoio estatal devem ser entregues ainda este ano aos principais fabricantes chineses de semicondutores, incluindo Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor e ChangXin Memory Technologies.

O relatório, citando pessoas familiarizadas com o assunto, afirmou que a produção já começou, embora a identidade do fabricante não tenha sido divulgada devido à sensibilidade em torno do projeto.

O desenvolvimento abalou investidores em toda a indústria de equipamentos para semicondutores.

As ações da ASML recuaram mais de 8%, enquanto fabricantes norte-americanos de equipamentos para chips, como Applied Materials, Lam Research e KLA Corp, também sofreram pressão, caindo quase 5%, quase 7% e 4%, respectivamente.

China mira um gargalo crítico na produção de semicondutores

Máquinas de litografia são amplamente consideradas os equipamentos tecnologicamente mais desafiadores usados na fabricação de semicondutores, porque imprimem padrões de circuito intrincados em wafers de silício.

A ASML domina o mercado global de sistemas avançados de litografia e continua sendo o único fornecedor mundial de máquinas de litografia por ultravioleta extremo (EUV) usadas para fabricar os chips mais avançados.

Após controles de exportação dos EUA e da Holanda terem impedido a ASML de vender sistemas EUV para a China, os fabricantes chineses de chips passaram a depender cada vez mais das máquinas DUV de imersão mais antigas da empresa.

Essas vendas se tornaram uma das fontes de receita mais importantes da ASML na China, à medida que os fabricantes locais estocaram equipamentos antevendo novas restrições às exportações.

Se as empresas chinesas agora conseguirem obter ferramentas DUV comparáveis internamente, investidores receiam que as oportunidades comerciais remanescentes da ASML na China possam encolher gradualmente.

Efeitos em cascata se espalham entre fabricantes de equipamentos

A onda de vendas se estendeu além da ASML porque investidores interpretaram o avanço relatado como uma ameaça mais ampla à indústria global de equipamentos para semicondutores.

Enquanto a ASML fornece equipamentos de litografia, empresas como Applied Materials, Lam Research e KLA fabricam ferramentas usadas em outras etapas críticas da produção de semicondutores, incluindo deposição de materiais, gravação de wafers e inspeção de defeitos.

Participantes do mercado temem que, se a China tiver sucesso no desenvolvimento de sistemas de litografia competitivos, ela possa eventualmente internalizar grande parte de sua cadeia de suprimentos de fabricação de semicondutores.

Isso, por sua vez, reduziria, no longo prazo, o mercado endereçável para fornecedores ocidentais de equipamentos na China.

Produção permanece limitada por enquanto

Apesar do avanço, o relatório sugeriu que os sistemas DUV domésticos da China ainda ficam atrás das máquinas da ASML em desempenho e confiabilidade.

A tecnologia requer mais testes antes de um desdobramento comercial em larga escala, o que permite que a ASML mantenha uma vantagem tecnológica no curto prazo.

Espera-se que a produção se mantenha modesta inicialmente, com aproximadamente cinco máquinas DUV de imersão programadas para entrega este ano e cerca de 20 máquinas planejadas para 2027.

A tecnologia DUV de imersão representa atualmente o equipamento de litografia mais avançado disponível para fabricantes chineses de chips, após as restrições de acesso a sistemas EUV.

A China também está desenvolvendo uma máquina de litografia EUV produzida internamente, embora esse esforço, segundo relatos, ainda esteja na fase de protótipo.

O momento coincide com o endurecimento das restrições dos EUA

O avanço de fabricação relatado ocorre enquanto Washington considera restrições adicionais às exportações de equipamentos para semicondutores e às atividades de manutenção envolvendo a China.

O Congresso dos Estados Unidos está avançando com o MATCH Act, legislação bipartidária projetada para limitar ainda mais a capacidade da China de comprar ou manter equipamentos avançados de litografia DUV de fornecedores estrangeiros.

Se a China conseguir produzir alternativas domésticas viáveis, a eficácia dessas restrições propostas pode diminuir ao longo do tempo.

Para Pequim, desenvolver equipamentos de litografia nacionais tornou-se uma prioridade estratégica à medida que tensões geopolíticas continuam a remodelar as cadeias globais de suprimentos de semicondutores.

Embora o relatório mais recente não sugira que a China já tenha igualado as capacidades tecnológicas da ASML, indica que os esforços de longo prazo do país para reduzir a dependência de equipamentos estrangeiros para semicondutores estão começando a produzir resultados concretos.

Para os investidores, a reação do mercado nesta segunda-feira refletiu preocupações de que até mesmo uma produção doméstica limitada possa, eventualmente, alterar o panorama competitivo em um dos segmentos de equipamentos mais estrategicamente importantes da indústria de semicondutores.