ASML-aktien faller efter rapport om att Kina börjat tillverka DUV-chipmaskiner

Aktierna i den nederländska tillverkaren av utrustning för halvledartillverkning ASML föll kraftigt på måndagen efter en rapport som sade att Kina har börjat tillverka inhemskt utvecklade immersions-DUV-litografimaskiner, en milstolpe som kan minska landets beroende av västerländsk kretstillverkningsutrustning samtidigt som exportrestriktionerna skärps.

Enligt The Information förväntas de statligt stödda maskinerna levereras senare i år till ledande kinesiska halvledartillverkare, inklusive Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor och ChangXin Memory Technologies.

Rapporten, som citerade personer bekanta med ärendet, uppgav att produktionen redan har påbörjats, även om tillverkarens identitet inte avslöjades på grund av projektets känsliga natur.

Utvecklingen oroade investerare i hela branschen för halvledarutrustning.

ASML-aktien sjönk med mer än 8%, medan USA-baserade tillverkare av kretstillverkningsutrustning Applied Materials, Lam Research och KLA Corp också kom under press och föll med nästan 5%, nästan 7% respektive 4%.

Kina tar sikte på en kritisk flaskhals inom halvledarindustrin

Litografimaskiner anses allmänt vara den mest tekniskt utmanande utrustningen som används i halvledartillverkning eftersom de trycker invecklade kretsmönster på kiselkakor.

ASML dominerar den globala marknaden för avancerade litografisystem och är fortfarande världens enda leverantör av extrema ultravioletta (EUV)-litografimaskiner som används för att tillverka de mest avancerade kretsarna.

Efter att amerikanska och nederländska exportkontroller hindrade ASML från att sälja EUV-system till Kina har kinesiska kretstillverkare i allt större utsträckning förlitat sig på företagets äldre immersions-DUV-maskiner.

Dessa försäljningar blev en av ASML:s viktigaste intäktskällor från Kina när lokala tillverkare lagrade utrustning inför ytterligare exportbegränsningar.

Om kinesiska företag nu kan skaffa jämförbara DUV-verktyg inhemskt fruktar investerare att ASML:s kvarvarande affärsmöjligheter i Kina gradvis kan krympa.

Ringeffekter spreds bland utrustningstillverkare

Utförsäljningen sträckte sig bortom ASML eftersom investerare tolkade det rapporterade genombrottet som ett bredare hot mot den globala industrin för halvledarutrustning.

Medan ASML levererar litografiutrustning tillverkar företag som Applied Materials, Lam Research och KLA verktyg som används i andra kritiska steg av halvledarproduktion, inklusive materialdeposition, kiselkaksetsning och defektinspektion.

Marknadsaktörer fruktar att om Kina lyckas utveckla konkurrenskraftiga litografisystem kan landet så småningom lokalisera mycket större delar av sin leverantörskedja för halvledartillverkning.

Det skulle i sin tur minska den långsiktiga adresserbara marknaden för västerländska utrustningsleverantörer i Kina.

Produktionen förblir begränsad än så länge

Trots genombrottet antydde rapporten att Kinas inhemska DUV-system fortfarande ligger efter ASML:s maskiner vad gäller prestanda och tillförlitlighet.

Tekniken kräver fortsatt testning innan storskalig kommersiell utrullning, vilket gör att ASML kan behålla ett teknologiskt försprång på kort sikt.

Produktionen väntas initialt förbli blygsam, med ungefär fem immersions-DUV-maskiner planerade för leverans i år och cirka 20 maskiner planerade under 2027.

Immersions-DUV-tekniken representerar för närvarande den mest avancerade litografiutrustningen som finns tillgänglig för kinesiska kretstillverkare efter begränsningarna i tillgången till EUV-system.

Kina utvecklar också en inhemskt producerad EUV-litografimaskin, även om det arbetet enligt rapporten fortfarande befinner sig på prototypstadiet.

Tidpunkten sammanfaller med hårdare amerikanska restriktioner

Det rapporterade tillverkningsgenombrottet kommer samtidigt som Washington överväger ytterligare restriktioner för export och service av halvledarutrustning som involverar Kina.

USA:s kongress driver MATCH Act, tvåpartislagstiftning som syftar till att ytterligare begränsa Kinas möjlighet att köpa eller underhålla avancerad DUV-litografisk utrustning från utländska leverantörer.

Om Kina lyckas producera gångbara inhemska alternativ kan effektiviteten hos dessa föreslagna restriktioner minska över tid.

För Peking har utvecklingen av inhemsk litografiutrustning blivit en strategisk prioritet i takt med att geopolitiska spänningar fortsätter att omforma de globala leverantörskedjorna för halvledare.

Även om den senaste rapporten inte tyder på att Kina ännu matchat ASML:s teknologiska kapabiliteter visar den att landets långsiktiga ansträngningar för att minska beroendet av utländsk halvledarutrustning börjar ge påtagliga resultat.

För investerare speglade måndagens marknadsreaktion oro över att även begränsad inhemsk produktion så småningom kan ändra den konkurrensmässiga bilden i ett av de mest strategiskt viktiga utrustningssegmenten inom halvledarindustrin.