Le azioni ASML calano: la Cina inizierebbe a produrre macchine DUV nazionali

Le azioni del colosso olandese delle attrezzature per semiconduttori ASML sono scese bruscamente lunedì dopo un rapporto secondo cui la Cina ha iniziato a produrre macchine di litografia deep ultraviolet (DUV) a immersione sviluppate a livello nazionale, un traguardo che potrebbe ridurre la dipendenza del Paese dalle attrezzature occidentali per la produzione di chip mentre le restrizioni alle esportazioni si inaspriscono.

Secondo The Information, si prevede che le macchine sostenute dallo Stato verranno consegnate più avanti quest'anno ai principali produttori cinesi di semiconduttori, tra cui Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor e ChangXin Memory Technologies.

Il rapporto, citando fonti a conoscenza della vicenda, afferma che la produzione è già iniziata, sebbene l'identità del produttore non sia stata resa nota a causa della sensibilità che circonda il progetto.

Lo sviluppo ha scosso gli investitori dell'intero settore delle attrezzature per semiconduttori.

Le azioni ASML sono calate di oltre l'8%, mentre i produttori statunitensi di attrezzature per chip Applied Materials, Lam Research e KLA Corp sono anch'essi finiti sotto pressione, perdendo rispettivamente quasi il 5%, quasi il 7% e il 4%.

La Cina punta a un collo di bottiglia critico nei semiconduttori

Le macchine di litografia sono ampiamente considerate le attrezzature tecnologicamente più complesse impiegate nella fabbricazione di semiconduttori, poiché stampano modelli di circuito intricati sui wafer di silicio.

ASML domina il mercato globale dei sistemi di litografia avanzata ed è tuttora l'unico fornitore al mondo di macchine di litografia extreme ultraviolet (EUV) utilizzate per produrre i chip più avanzati.

Dopo che i controlli alle esportazioni statunitensi e olandesi hanno impedito ad ASML di vendere sistemi EUV alla Cina, le aziende cinesi produttrici di chip hanno fatto sempre più affidamento sui modelli DUV a immersione più datati dell'azienda.

Queste vendite sono diventate una delle fonti di ricavo più importanti di ASML in Cina, mentre i produttori locali accumulavano attrezzature in previsione di ulteriori restrizioni alle esportazioni.

Se le aziende cinesi ora possono procurarsi strumenti DUV comparabili a livello nazionale, gli investitori temono che le opportunità commerciali residue di ASML in Cina possano ridursi gradualmente.

Effetti a catena tra i produttori di attrezzature

La svendita si è estesa oltre ASML perché gli investitori hanno interpretato il presunto progresso come una minaccia più ampia per l'industria globale delle attrezzature per semiconduttori.

Mentre ASML fornisce attrezzature di litografia, aziende come Applied Materials, Lam Research e KLA producono strumenti impiegati in altre fasi critiche della produzione di semiconduttori, tra cui deposizione di materiali, incisione dei wafer e ispezione dei difetti.

Gli operatori di mercato temono che, se la Cina riuscirà a sviluppare sistemi di litografia competitivi, potrebbe alla fine localizzare gran parte della sua catena di fornitura per la produzione di semiconduttori.

Ciò, a sua volta, ridurrebbe il mercato indirizzabile a lungo termine per i fornitori occidentali di attrezzature in Cina.

Per ora la produzione rimane limitata

Nonostante il progresso, il rapporto suggerisce che i sistemi DUV cinesi rimangono inferiori alle macchine ASML in termini di prestazioni e affidabilità.

La tecnologia richiede ulteriori test prima di un dispiegamento commerciale su larga scala, permettendo ad ASML di mantenere un vantaggio tecnologico nel breve periodo.

Si prevede che la produzione rimarrà inizialmente modesta, con circa cinque macchine DUV a immersione programmate per la consegna entro quest'anno e circa 20 macchine pianificate nel corso del 2027.

La tecnologia DUV a immersione rappresenta attualmente l'attrezzatura di litografia più avanzata disponibile per i produttori cinesi di chip a seguito delle restrizioni sull'accesso ai sistemi EUV.

La Cina sta anche sviluppando una macchina di litografia EUV prodotta internamente, sebbene tale sforzo risulti al momento ancora a livello di prototipo.

Il tempismo coincide con un irrigidimento delle restrizioni statunitensi

Il presunto progresso nella produzione arriva mentre Washington valuta ulteriori restrizioni sulle esportazioni di attrezzature per semiconduttori e sulle attività di assistenza rivolte alla Cina.

Il Congresso degli Stati Uniti sta portando avanti il MATCH Act, una legge bipartisan volta a limitare ulteriormente la capacità della Cina di acquistare o mantenere attrezzature di litografia DUV avanzate da fornitori esteri.

Se la Cina riuscisse a produrre alternative domestiche praticabili, l'efficacia di tali restrizioni proposte potrebbe diminuire nel tempo.

Per Pechino, sviluppare attrezzature di litografia nazionali è diventata una priorità strategica mentre le tensioni geopolitiche continuano a rimodellare le catene di approvvigionamento globali dei semiconduttori.

Sebbene l'ultimo rapporto non suggerisca che la Cina abbia già eguagliato le capacità tecnologiche di ASML, indica che gli sforzi a lungo termine del Paese per ridurre la dipendenza dalle attrezzature straniere per semiconduttori stanno cominciando a dare risultati tangibili.

Per gli investitori, la reazione del mercato di lunedì ha riflesso il timore che anche una produzione domestica limitata possa alla fine modificare il panorama competitivo in uno dei segmenti di attrezzature più strategicamente importanti dell'industria dei semiconduttori.