Acțiunile ASML scad pe fondul raportului că China a început să producă mașini DUV locale

Acțiunile gigantului olandez de echipamente pentru semiconductori ASML au scăzut puternic luni, după ce un raport a afirmat că China a început să fabrice mașini de litografie DUV prin imersie, dezvoltate intern — un pas care ar putea reduce dependența țării de echipamentele occidentale pentru fabricarea cipurilor pe măsură ce restricțiile la export se înăspresc.

Potrivit The Information, se așteaptă ca mașinile susținute de stat să fie livrate mai târziu în acest an principalilor producători chinezi de semiconductori, inclusiv Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor și ChangXin Memory Technologies.

Raportul, citând persoane familiarizate cu situația, a spus că producția a început deja, deși identitatea producătorului nu a fost dezvăluită din cauza sensibilității proiectului.

Dezvoltarea a neliniștit investitorii din întreaga industrie a echipamentelor pentru semiconductori.

Acțiunile ASML au scăzut cu peste 8%, în timp ce producătorii americani de echipamente pentru cipuri Applied Materials, Lam Research și KLA Corp au fost, de asemenea, sub presiune, înregistrând corecții de aproape 5%, aproape 7% și 4%, respectiv.

China vizează un blocaj critic în industria semiconductorilor

Mașinile de litografie sunt considerate pe scară largă cele mai provocatoare din punct de vedere tehnologic echipamente folosite în fabricarea semiconductorilor, deoarece imprimă modele de circuite foarte complexe pe plachete de siliciu.

ASML domină piața globală a sistemelor avansate de litografie și rămâne singurul furnizor mondial de mașini de litografie cu ultraviolete extreme (EUV) folosite pentru fabricarea celor mai avansate cipuri.

După ce controalele la export din SUA și Olanda au împiedicat ASML să vândă sisteme EUV în China, producătorii chinezi de cipuri s-au bazat tot mai mult pe mașinile DUV mai vechi prin imersie ale companiei.

Acele vânzări au devenit una dintre cele mai importante surse de venit ale ASML din China, pe măsură ce producătorii locali au stocat echipamente în anticiparea unor noi restricții la export.

Dacă companiile chineze pot acum să obțină instrumente DUV comparabile pe plan intern, investitorii se tem că oportunitățile comerciale rămase ale ASML în China ar putea scădea treptat.

Efectele se răspândesc între producătorii de echipamente

Vânzările s-au extins dincolo de ASML, deoarece investitorii au interpretat descoperirea raportată ca o amenințare mai largă pentru industria globală a echipamentelor pentru semiconductori.

Deși ASML furnizează echipamente de litografie, companii precum Applied Materials, Lam Research și KLA fabrică utilaje utilizate în alte etape critice ale producției de semiconductori, inclusiv depunerea materialelor, gravarea plachetelor și inspectarea defectelor.

Participanții la piață se tem că, dacă China reușește să dezvolte sisteme de litografie competitive, ar putea în cele din urmă să localizeze o parte mult mai mare a lanțului său de aprovizionare pentru producția de semiconductori.

Acest lucru, la rândul său, ar reduce piața adresabilă pe termen lung pentru furnizorii occidentali de echipamente în China.

Producția rămâne limitată deocamdată

În ciuda avansului, raportul sugerează că sistemele DUV interne ale Chinei încă rămân inferioare mașinilor ASML în ceea ce privește performanța și fiabilitatea.

Tehnologia necesită teste suplimentare înainte de o implementare comercială la scară largă, ceea ce îi permite ASML să păstreze un avantaj tehnologic pe termen scurt.

Se estimează că producția va rămâne modestă inițial, cu aproximativ cinci mașini DUV prin imersie programate pentru livrare în acest an și aproximativ 20 de mașini planificate pentru 2027.

Tehnologia DUV prin imersie reprezintă în prezent cel mai avansat echipament de litografie disponibil producătorilor chinezi de cipuri, în urma restricțiilor privind accesul la sistemele EUV.

China dezvoltă, de asemenea, o mașină de litografie EUV produsă intern, deși acel efort este, potrivit raportului, încă în stadiul de prototip.

Momentul coincide cu înăsprirea restricțiilor din SUA

Descoperirea din producție raportată apare pe fondul în care Washington analizează restricții suplimentare privind exporturile de echipamente pentru semiconductori și activitățile de service legate de China.

Congresul Statelor Unite promovează MATCH Act, o legislație bipartizană concepută pentru a limita în continuare capacitatea Chinei de a cumpăra sau întreține echipamente avansate de litografie DUV de la furnizori străini.

Dacă China reușește să producă alternative interne viabile, eficacitatea acelor restricții propuse ar putea scădea în timp.

Pentru Beijing, dezvoltarea echipamentelor de litografie produse intern a devenit o prioritate strategică, pe măsură ce tensiunile geopolitice continuă să remodeleze lanțurile globale de aprovizionare cu semiconductori.

Deși ultimul raport nu sugerează că China a egalat încă capabilitățile tehnologice ale ASML, el indică faptul că eforturile pe termen lung ale țării de a reduce dependența de echipamentele străine pentru semiconductori încep să producă rezultate tangibile.

Pentru investitori, reacția pieței de luni a reflectat îngrijorarea că chiar și o producție internă limitată ar putea, în final, modifica peisajul competitiv într-unul dintre segmentele de echipamente cele mai importante strategic din industria semiconductorilor.