Las acciones de ASML caen tras informes de producción china de máquinas DUV

Las acciones del gigante neerlandés de equipos para semiconductores ASML cayeron con fuerza el lunes tras un informe que indicó que China ha comenzado a fabricar máquinas de litografía DUV por inmersión desarrolladas en el país, un hito que podría reducir la dependencia del país de equipos occidentales para la fabricación de chips a medida que se endurecen las restricciones a la exportación.

Según The Information, se espera que las máquinas respaldadas por el Estado se entreguen más adelante este año a los principales fabricantes chinos de semiconductores, entre ellos Semiconductor Manufacturing International Corp. (SMIC), Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies.

El informe, que cita a personas familiarizadas con el asunto, dijo que la producción ya ha comenzado, aunque la identidad del fabricante no se divulgó debido a la sensibilidad que rodea el proyecto.

El avance inquietó a los inversores de toda la industria de equipos para semiconductores.

Las acciones de ASML cayeron más de un 8%, mientras que los fabricantes estadounidenses de equipos para chips Applied Materials, Lam Research y KLA Corp también sufrieron presión, retrocediendo casi un 5%, casi un 7% y un 4%, respectivamente.

China apunta a un cuello de botella crítico en los semiconductores

Las máquinas de litografía son ampliamente consideradas como el equipo tecnológicamente más desafiante en la fabricación de semiconductores, porque imprimen patrones de circuito intrincados en obleas de silicio.

ASML domina el mercado global de sistemas de litografía avanzados y sigue siendo el único proveedor mundial de máquinas de litografía de ultravioleta extremo (EUV) utilizadas para fabricar los chips más avanzados.

Tras los controles de exportación de EE. UU. y Países Bajos que impidieron a ASML vender sistemas EUV a China, los fabricantes chinos de chips dependieron cada vez más de las máquinas DUV por inmersión más antiguas de la compañía.

Esas ventas se convirtieron en una de las fuentes de ingresos más importantes de ASML procedentes de China, mientras los fabricantes locales acumularon equipos ante la posibilidad de nuevas restricciones a la exportación.

Si las empresas chinas ahora pueden obtener herramientas DUV comparables de forma nacional, los inversores temen que las oportunidades comerciales restantes de ASML en China puedan reducirse gradualmente.

Efectos en cadena entre los fabricantes de equipos

La venta se extendió más allá de ASML porque los inversores interpretaron el supuesto avance como una amenaza más amplia para la industria global de equipos para semiconductores.

Mientras ASML suministra equipos de litografía, empresas como Applied Materials, Lam Research y KLA fabrican herramientas utilizadas en otras etapas críticas de la producción de semiconductores, incluyendo la deposición de materiales, el grabado de obleas y la inspección de defectos.

Los participantes del mercado temen que si China logra desarrollar sistemas de litografía competitivos, eventualmente podría localizar gran parte de su cadena de suministro de fabricación de semiconductores.

Eso, a su vez, reduciría a largo plazo el mercado direccionable para los proveedores occidentales de equipos en China.

La producción sigue limitada por ahora

A pesar del avance, el informe sugería que los sistemas DUV domésticos de China aún quedan por detrás de las máquinas de ASML en rendimiento y fiabilidad.

La tecnología requiere más pruebas antes de un despliegue comercial a gran escala, lo que permite a ASML conservar una ventaja tecnológica a corto plazo.

Se espera que la producción se mantenga modesta inicialmente, con aproximadamente cinco máquinas DUV por inmersión programadas para entrega este año y alrededor de 20 máquinas planeadas para 2027.

La tecnología DUV por inmersión representa actualmente el equipo de litografía más avanzado disponible para los fabricantes chinos de chips tras las restricciones de acceso a los sistemas EUV.

China también está desarrollando una máquina de litografía EUV producida localmente, aunque ese esfuerzo, según informes, aún se encuentra en fase de prototipo.

El momento coincide con el endurecimiento de restricciones de EE. UU.

El supuesto avance en la manufactura se produce cuando Washington considera restricciones adicionales sobre las exportaciones de equipos para semiconductores y las actividades de servicio relacionadas con China.

El Congreso de Estados Unidos está impulsando la MATCH Act, una legislación bipartidista diseñada para limitar aún más la capacidad de China para comprar o mantener equipos avanzados de litografía DUV de proveedores extranjeros.

Si China logra producir alternativas viables nacionales, la efectividad de esas restricciones propuestas podría disminuir con el tiempo.

Para Pekín, desarrollar equipos de litografía de fabricación nacional se ha convertido en una prioridad estratégica en tanto las tensiones geopolíticas siguen remodelando las cadenas de suministro globales de semiconductores.

Aunque el último informe no sugiere que China haya alcanzado todavía las capacidades tecnológicas de ASML, indica que los esfuerzos a largo plazo del país para reducir la dependencia de equipos extranjeros para semiconductores están empezando a producir resultados tangibles.

Para los inversores, la reacción del mercado del lunes reflejó la preocupación de que incluso una producción doméstica limitada pueda eventualmente alterar el panorama competitivo en uno de los segmentos de equipos más estratégicamente importantes de la industria de semiconductores.